隨著電子行業(yè)的興起，很多企業(yè)都采用屏蔽機房來屏蔽一些不必要的干擾，為了滿足企業(yè)對屏蔽機房的不同屏蔽需求，屏蔽機房技術(shù)水平也逐漸在提高，每個企業(yè)采用不同的屏蔽材料都會有所不同，因此很多企業(yè)對于屏蔽機房的屏蔽效果是否與屏蔽材料有關產(chǎn)生了很多疑問，下面本文詳解有哪些因素會影響屏蔽材料的效果!

一、影響屏蔽材料效果的因素有

(1)頻率較高時，吸收損耗是主要的屏蔽機理，這時與輻射源是電場輻射源還是磁場輻射源關系不大。

(2)頻率較低的時候，吸收損耗很小，反射損耗是屏蔽效能的主要機理，要盡量提高反射損耗。

(3)電場波是最容易屏蔽的，平面波其次，磁場波是最難屏蔽的。尤其是(1KHz以下)低頻磁場，很難屏蔽。對于低頻磁場，要采用高導磁性材料屏蔽，幾種情況影響屏蔽材料的效果甚至采用高導電性材料和高導磁性材料復合起來的材料。

(4)材料的導電性和導磁性越好，屏蔽效能越高，但實際的金屬材料不可能兼顧這兩個方面，例如銅的導電性很好，但是導磁性很差;鐵的導磁性很好，但是導電性較差。應該使用什么材料，根據(jù)具體屏蔽主要依賴反射損耗、還是吸收損耗來決定是側(cè)重導電性還是導磁性;

(5)反射損耗與屏蔽體到輻射源的距離有關，對于電場輻射源，距離越近，則反射損耗越大，對于磁場輻射源，距離越近，則反射損耗越小，正確判斷輻射源的性質(zhì)，決定它應該靠近屏蔽體，還是原理屏蔽體，是結(jié)構(gòu)設計的一個重要內(nèi)容。

(6)反射損耗與輻射源的特性有關，對于電場輻射源，反射損耗很大;對于磁場輻射源，反射損耗很小。因此，對于磁場輻射源的屏蔽主要依靠材料的吸收損耗，應該選用磁導率較高的材料做屏蔽材料。

    以上哪些因素會影響屏蔽材料的效果，屏蔽材料在同距離、不同頻率、不同場源的屏蔽效果也是不同的，而不同類型的金屬材料也會帶來不同的屏蔽效果。

二、屏蔽機房的布線要求

    屏蔽機房工程是一種涉及到屏蔽室抗干擾技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、供配電技術(shù)、自動檢測與控制技術(shù)、綜合布線技術(shù)以及凈化、消防、建筑和裝飾等多種專業(yè)的綜合性工程，因此對于屏蔽房的布線所用的材料和布線方式是非常重要的，具體如下：

    屏蔽房布線選材最好采用金屬材料，這樣能提高屏蔽機房的防火性，注重機房線槽的布置，一般圍繞設備進行布置可以考慮和成排的機柜平行布局，一般每排機柜布置一條線槽，也可以兩排相鄰機柜中間走道上公用一條線槽，由于設備在機房內(nèi)成排布置，因此每排設備都在地板下配置了線槽，一般線槽的高度在50—100mm.

    采用上走線方式則需要有設備布局的配合，這種布局主要適用于標準機架式布局的場合，機柜的尺寸特別是高度應基本一致，才能保證美觀，上走線采用線槽，線槽有兩種安裝模式：支架吊裝在頂上、支架支撐在地面上，支撐在地面上容易發(fā)生支架和機柜的碰撞，因此在設計時應注意。

三、屏蔽房中照明設計

    屏蔽房的所有區(qū)域(主機房、保密屏蔽機房、緩沖區(qū)和電池配電房)安裝超薄型的LED照明板，燈光要求不閃爍、不眩光、照度大，光線分布均勻。

(1)照度要求：主機房不小于400-500LUX，監(jiān)控室≥200LUX設計;

(2)機房區(qū)部分燈采用UPS直接供電，作為市電故障應急照明使用;

(3)照明、插座分別由不同支路供電，采用單相三線制，所有插座回路均設漏電斷路器保護;

(4)出(入)口指示燈、疏散指示燈采用交直流兩用型，內(nèi)設可浮充蓄電池，持續(xù)時間大于30min;(5)照明系統(tǒng)采取集中控制方式，即通過嵌入配電開關箱控制機房照明，避免使用傳統(tǒng)式的按鍵開關。

四、總結(jié)

    在我們的生活中，或許你還沒有察覺到，其實屏蔽機房在我們的生活中扮演著非常重要的角色，在生活中也做出了很多的貢獻，電磁屏蔽機房的主要功能即是阻隔外界電磁攪擾，確保室內(nèi)電子、電氣設備正常作業(yè)。特別是在電子元件、電器設備的計量、測試作業(yè)中，使用電磁屏蔽房(或屏蔽室)模仿抱負電磁環(huán)境，進步檢查成果的準確度。

    電磁屏蔽機房可以阻斷室內(nèi)電磁輻射向外界擴散，屏蔽機房可有效隔離屏蔽電磁輻射，以防干擾其他電子產(chǎn)品及電氣設備的正常工作，也保障了工作人員的身體健康�？捎行Х乐闺娮有畔⒃O備的信息泄露，也確保了信息的安全，所以，在電磁屏蔽產(chǎn)品中，以屏蔽室和屏蔽房的使用居多。我們在選擇屏蔽機房時，一定要選擇正規(guī)的廠家，這樣才能正好建設屏蔽室、屏蔽機房，以幫助我們達到更好的屏蔽效果。

來源：搜狐